Hauv kev lag luam xws li semiconductor manufacturing thiab precision ntsuas ntsuas, qhov tseeb ntawm granite precision platforms ncaj qha txiav txim siab ua haujlwm zoo ntawm cov khoom siv. Txhawm rau kom ntseeg tau tias lub platform qhov tseeb ua tau raws li cov qauv, kev siv zog yuav tsum tau ua los ntawm ob yam: kev tshawb nrhiav cov cim tseem ceeb thiab ua raws li cov qauv kev cai. cov
Qhov taw qhia tseem ceeb nrhiav kom tau: Ntau qhov kev tswj xyuas qhov tseeb
Flatness detection: Txiav txim siab "flatness" ntawm lub dav hlau siv
Flatness yog qhov taw qhia tseem ceeb ntawm granite precision platforms, thiab nws feem ntau yog ntsuas los ntawm laser interferometers lossis qib hluav taws xob. Lub laser interferometer tuaj yeem ntsuas qhov ntsuas cov feeb ntawm qhov chaw ntawm lub platform los ntawm emitting lub laser beam thiab siv lub hauv paus ntsiab lus ntawm lub teeb cuam tshuam, nrog rau qhov tseeb mus txog qib sub-micron. Cov qib hluav taws xob ntsuas los ntawm kev txav ntau zaus thiab kos daim duab peb sab contour daim duab qhia ntawm lub platform nto kom paub seb puas muaj kev cuam tshuam hauv zos lossis kev nyuaj siab. Piv txwv li, cov granite platforms siv nyob rau hauv semiconductor photolithography tshuab yuav tsum muaj ib tug flatness ntawm ± 0.5μm / m, lub ntsiab lus hais tias qhov siab sib txawv nyob rau hauv ib tug 1-meter ntev yuav tsum tsis txhob ntau tshaj ib nrab micrometer. Tsuas yog los ntawm cov cuab yeej nrhiav kom pom qhov tseeb tuaj yeem ua qhov txheej txheem nruj no. cov
2. Kev txheeb xyuas qhov ncaj: xyuas kom meej qhov "straightness" ntawm cov lus tsa suab
Rau cov platforms uas nqa precision txav qhov chaw, ncaj yog qhov tseem ceeb heev. Cov txheej txheem ntau rau kev kuaj pom yog txoj kev xaim lossis laser collimator. Cov txheej txheem xaim cuam tshuam nrog kev ncua kev ua haujlwm siab ntawm cov xaim hlau thiab sib piv qhov sib txawv ntawm lub platform nto thiab cov hlau xaim los txiav txim siab qhov ncaj. Lub laser collimator siv cov linear propagation yam ntxwv ntawm laser mus ntes cov linear yuam kev ntawm lub installation nto ntawm lub platform qhia rail. Yog tias qhov ncaj tsis ua raws li tus qauv, nws yuav ua rau cov cuab yeej hloov pauv thaum lub sijhawm txav, cuam tshuam rau kev ua haujlwm lossis ntsuas qhov tseeb. cov
3. Nto roughness detection: xyuas kom meej qhov "fineness" ntawm kev sib cuag
Qhov saum npoo roughness ntawm lub platform cuam tshuam qhov haum ntawm cov khoom siv. Feem ntau, stylus roughness meter los yog optical microscope yog siv los kuaj xyuas. Lub stylus hom ntsuas ntsuas qhov siab hloov pauv ntawm qhov microscopic profile los ntawm kev hu rau lub platform nto nrog kev sojntsuam zoo. Optical microscopes tuaj yeem ncaj qha saib qhov kev ntxhib los mos. Nyob rau hauv high-precision daim ntaub ntawv, lub nto roughness ntawm granite platforms yuav tsum tau tswj ntawm Ra≤0.05μm, uas yog sib npaug rau ib daim iav zoo li cov nyhuv, kom ntseeg tau tias precision Cheebtsam haum nruj nreem kaw thaum lub sij hawm installation thiab tsis txhob vibration los yog txav los ntawm qhov khoob. cov
Cov txheej txheem precision ua raws li: cov qauv thoob ntiaj teb thiab kev tswj hwm sab hauv ntawm lub tuam txhab
Tam sim no, thoob ntiaj teb, ISO 25178 thiab GB / T 24632 tus qauv feem ntau yog siv los ua lub hauv paus rau kev txiav txim siab qhov tseeb ntawm granite platforms, thiab muaj cov kev faib tawm meej rau cov ntsuas xws li flatness thiab ncaj. Tsis tas li ntawd, high-end manufacturing enterprises feem ntau teem nruj dua nyob rau hauv cov txheej txheem tswj. Piv txwv li, qhov yuav tsum tau flatness rau granite platform ntawm photolithography tshuab yog 30% siab tshaj tus qauv thoob ntiaj teb. Thaum ua cov kev ntsuam xyuas, cov ntaub ntawv ntsuas yuav tsum tau muab piv nrog cov qauv sib xws. Tsuas yog cov platforms uas ua raws li cov qauv yuav ua kom muaj kev ruaj ntseg hauv cov khoom siv precision. cov
Kev tshuaj xyuas qhov tseeb ntawm granite precision platforms yog ib txoj haujlwm ua haujlwm. Tsuas yog los ntawm kev soj ntsuam nruj me ntsis xws li flatness, straightness, thiab deg roughness, thiab ua raws li cov txheej txheem thoob ntiaj teb thiab kev lag luam, tuaj yeem lav qhov siab precision thiab kev ntseeg siab ntawm lub platform, tso lub hauv paus ruaj khov rau high-end manufacturing teb xws li semiconductors thiab precision instruments.
Post lub sij hawm: May-21-2025